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Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Halterung mindestens eines Substrates (2) in einer Prozesskammer (3) eines Reaktorgehäuses (15) mit einer Angriffzone (4) zum Angriff einer Handhabungseinrichtung und mit einer Auflagezone (5), auf welcher das Substrat (2) zumindest mit seinem Rand (2'') aufliegt. Um die auf dem Substrat abgeschiedene Gallium-Nitrid-Schicht gegenüber dem Substrat anzulösen, wird diese von unten her mit einem Laserstrahl beaufschlagt. Hierzu ist vorgesehen, daß die Auflagezone (5) für die Wellenlänge (1) eines optischen Substratbehandlungsprozesses transparent ist.
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