发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE COMPUTER PROGRAM AND NON-TRANSITORY COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM
摘要 본 발명은 배기 펌프의 이상이나 메인터넌스 등에 기인하는 기판 처리에 대한 영향을 저감한다. 기판을 처리하는 처리실, 상기 처리실에 접속되고 상기 처리실을 클리닝하는 클리닝 가스 또는 상기 기판을 처리하는 처리 가스를 공급하는 가스 공급계, 상기 처리실에 접속된 배기로 및 상기 배기로에 설치된 진공 펌프를 적어도 포함하는 가스 배기계를 포함하는 복수의 처리 유닛; 상기 처리 유닛의 배기로끼리를 상기 진공 펌프의 상류측에서 접속하는 접속로; 상기 처리실을 상기 처리실을 포함하는 처리 유닛과는 다른 처리 유닛의 진공 펌프에 상기 접속로를 개재하여 연통(連通)시키는 것에 의해 상기 처리실의 배기 경로를 절체(切替)하는 절체부; 상기 절체부의 동작을 제어하는 제어부; 및 상기 가스 배기계의 이상을 검지하는 검지부;를 포함하고, 상기 제어부는 상기 검지부에 의해 상기 가스 배기계의 이상이 검지되었을 때, 상기 가스 배기계의 이상이 검지되지 않고 아이들링 상태의 처리실이 없는 경우에, 상기 이상이 검지된 가스 배기계를 포함하는 처리 유닛의 처리실을 상기 가스 배기계의 이상이 검지되지 않고 또한 클리닝 처리 중인 처리실을 포함하는 처리 유닛의 진공 펌프에 연통시키도록, 상기 절체부를 제어하고, 또한 상기 제어부는 상기 클리닝 처리 중인 처리실에서 실행되는 클리닝 처리를 중단시킨 후 상기 이상이 검지된 가스 배기계를 포함하는 처리 유닛의 처리실을 상기 클리닝 처리가 중단된 처리실을 포함하는 처리 유닛의 진공 펌프에 연통시키도록, 상기 절체부를 제어하도록 구성된다.
申请公布号 KR20160130192(A) 申请公布日期 2016.11.10
申请号 KR20160142678 申请日期 2016.10.31
申请人 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. 发明人 SANO ATSUSHI
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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