化学蒸镀装置

摘要

本发明涉及一种化学蒸镀装置(CVD)，该装置包含：形成反应室的反应器，该反应室上部具有用于供应反应气体的气体流入孔；在所述反应室内用于支持作业物的支持台；用于从所述气体流入孔将反应气体喷射于所述作业物上的、具有喷嘴单元的喷头，该喷嘴单元设有从中心轴线到径向外侧流动长度逐渐变长的多个喷嘴孔。由此，本发明提供一种可以均匀地形成蒸镀膜的化学蒸镀装置。

主权项

1、一种化学蒸镀装置，其特征在于包含：形成反应室的反应器，该反应室上部中央具有用于供应反应气体的气体流入孔；在所述反应室内用于支持作业物的支持台；用于从所述气体流入孔将反应气体喷射于所述作业物上的、具有喷嘴单元的喷头，该喷嘴单元设有从中心轴线到径向外侧流动长度逐渐变长，且流出端离所述支持台的间距相等，而流入端离所述支持台的间距为从中心轴线到径向外侧越来越远的多个喷嘴孔。