发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR DESIGN OF A METROLOGY TARGET
摘要 기판 상에 사용되는 메트롤로지 타겟을 선택하는 시스템 및 방법이 개시되며, 이는 각각의 제안된 타겟에 대하여 공정 윈도우 구역 상의 복수의 지점들에 대해 리소그래피 시뮬레이션을 수행하는 단계, 각각의 제안된 타겟에 대하여 여하한의 복수의 지점들에 대해 치명적 오류를 식별하는 단계, 여하한의 복수의 지점들에서 치명적 오류를 갖는 각각의 타겟을 제거하는 단계, 여하한의 복수의 지점들에서 치명적 오류를 갖지 않는 각각의 타겟에 대하여 공정 윈도우에 걸쳐 파라미터를 결정하도록 메트롤로지 시뮬레이션을 수행하는 단계, 및 타겟 품질을 평가하도록 1 이상의 결과적인 결정된 시뮬레이션 파라미터를 이용하는 단계를 포함한다.
申请公布号 KR20160103132(A) 申请公布日期 2016.08.31
申请号 KR20167021007 申请日期 2014.12.04
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 CHEN GUANGQING;BAI SHUFENG;WANG JEN SHIANG
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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