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Beschichtungsanlage zum Beschichten von Substraten mit mehreren kreisförmig angeordneten Prozessstationen, einer Schleuse zum Be- und Entladen der Substrate und einer Handhabungseinrichtung zum Überführen der Substrate zwischen den Prozessstationen, und zwischen mindestens einer Prozessstation und der Schleuse, wobei die Prozessstationen mindestens zwei unabhängig voneinander arbeitende Beschichtungskammern zum stationären Beschichten der Substrate aufweisen und die Beschichtungskammern jeweils mit einer Plasmaquelle verbunden sind, wobei die Beschichtungsanlage angepasst ist, die Substrate die einzelnen Prozessstationen im Taktbetrieb durchlaufen zu lassen.
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