METHOD FOR MANUFACTURING TANTALUM SPUTTERING TARGET

摘要

타깃의 평균 결정립경이 50 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하이고, 타깃 면 내의 결정립경의 편차가 40 ％ 이상 60 ％ 이하인 것을 특징으로 하는 탄탈 스퍼터링 타깃. 막두께의 균일성 (유니포미티) 을 향상시켜, 막의 저항값 (시트 저항) 의 편차를 저감할 수 있는 탄탈 스퍼터링 타깃을 제공하는 것을 과제로 한다.