发明名称 一种利用超快超强激光激发碳纳米管产生超快电子的装置
摘要 本发明提供了一种利用超快超强激光激发碳纳米管产生超快电子的装置,包括电子发射源、激发光源和光聚焦系统,所述电子发射源包括碳纳米管发射体和用于制备所述碳纳米管的阴极衬底;所述电子发射源阴极设置于真空腔内的一端,所述真空腔内的另一端设置收集电子的阳极,所述真空腔设有供激光入射的入射窗;所述光源为超快超强脉冲激光器,用于发射超快超强激光脉冲;所述光学聚焦系统包括半波片、偏振片和聚焦透镜,所述光学聚焦系统对超快超强激光脉冲进行聚焦;所述超快超强激光脉冲依次经过半波片、偏振片和聚焦透镜聚焦;所述超快超强激光脉冲聚焦后经所述入射窗汇聚至所述碳纳米管尖端区域激发碳纳米管产生超快超强电子脉冲。
申请公布号 CN106024551A 申请公布日期 2016.10.12
申请号 CN201610404988.7 申请日期 2016.06.08
申请人 北京英徽科技有限公司 发明人 李驰;周旭;李振军;白冰;刘开辉;戴庆
分类号 H01J1/304(2006.01)I 主分类号 H01J1/304(2006.01)I
代理机构 北京律恒立业知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11416 代理人 顾珊;庞立岩
主权项 一种利用超快超强激光激发碳纳米管产生超快电子的装置,包括电子发射源阴极、激发光源和光调制系统,其特征在于,所述电子发射源阴极包括碳纳米管发射体和用于制备所述碳纳米管的阴极衬底;所述电子发射源阴极设置于真空腔内一端,所述真空腔内另一端设置收集电子的阳极,所述真空腔设有供激光入射的入射窗;所述光源为超快超强脉冲激光器,所述超快超强脉冲激光器用于发射超快超强激光脉冲;所述光学调制系统包括半波片、偏振片和聚焦透镜等,所述光学调制系统对超快超强激光脉冲的强度、偏振、焦点等参数进行调制;所述超快超强激光脉冲依次经过半波片、偏振片和聚焦透镜聚焦等光学元件;所述超快超强激光脉冲调制后经所述入射窗汇聚至所述碳纳米管尖端区域激发碳纳米管产生超快超强电子脉冲。
地址 100085 北京市海淀区清河三街72号6号楼2层2219室