Apparatus for treating a substrate

摘要

본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 내부에 처리 공간을 가지는 챔버와 상기 챔버 내에서 기판을 지지하는 지지판을 포함하되 상기 챔버에는 외부 기류가 유입되는 유입구가 제공되며 상기 유입구는 서로 이격된 복수의 슬릿 형상의 메인홀과 인접하는 메인홀 사이에 배치되는 보조홀을 포함하는 기판 처리 장치를 포함한다.