| 发明名称 | X－射线曝光控制方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及在通过辐射源(1)照射对象的过程中(特别是在X-射线曝光的过程中)限制施加到对象的辐射(输入剂量率)的方法和装置。通过所计算的系数校正产生施加到要检查的对象上的超过预定的最大输入剂量率的输入剂量率的控制曲线的值对。这就得到了整个长度用于调节所需的管参数(管电压、管电流或负载)的校正的控制曲线，而不会造成超过最大的输入剂量率的危险。 | ||
| 申请公布号 | CN1293787C | 申请公布日期 | 2007.01.03 |
| 申请号 | CN02156370.5 | 申请日期 | 2002.12.18 |
| 申请人 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 发明人 | U·博特;A·赛姆克 |
| 分类号 | H05G1/32(2006.01);H05G1/34(2006.01) | 主分类号 | H05G1/32(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王岳;陈霁 |
| 主权项 | 1.一种在通过X射线源照射对象的过程中限制施加到对象上的辐射输入剂量率的方法，该X射线源由通过多对值形成的控制曲线(I，II)控制，由此使X射线源每次的至少一个第一操作参数与X射线源的第二操作参数相关，根据照射条件校正该控制曲线以使在照射的过程中对于任何对值都不超过输入剂量率。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||