用于制造导电片的方法和用于制造触控面板的方法

摘要

利用第一光(106a)辐照形成于透明支撑体(102)的一个主表面上的第一光敏层(104a)，由此对所述第一光敏层(104a)进行曝光的第一曝光处理，和利用第二光(106b)辐照形成于所述透明支撑体(102)另一个主表面上的第二光敏层(104b)，由此对所述第二光敏层(104b)进行曝光的第二曝光处理，所述曝光处理执行为使得入射到所述第一光敏层(104a)上的第一光(106a)基本上不到达所述第二光敏层(104b)且入射到所述第二光敏层(104b)上的第二光(106b)基本上不到达所述第一光敏层(104a)。

主权项

一种用于制造导电片(10、114)的方法，所述方法包括对光敏材料(100)进行曝光和显影的步骤，所述光敏材料(100)具有透明支撑体(102)、形成于所述透明支撑体(102)的一个主表面上的第一光敏层(104a)和形成于所述透明支撑体(102)的另一个主表面上的第二光敏层(104b)，其中：所述曝光步骤包括：利用光(106a)辐照所述透明支撑体(102)上的所述第一光敏层(104a)，由此对所述第一光敏层(104a)进行曝光的第一曝光处理；和利用光(106b)辐照所述透明支撑体(102)上的所述第二光敏层(104b)，由此对所述第二光敏层(104b)进行曝光的第二曝光处理；并且所述曝光步骤执行为使得入射到所述第一光敏层(104a)上的光(106a)基本上不到达所述第二光敏层(104b)且入射到所述第二光敏层(104b)上的光(106b)基本上不到达所述第一光敏层(104a)，其中，至少通过选择所述第二光敏层(104b)的敏感度来控制所述第一光敏层(104a)上的图像形成；并且至少通过选择所述第一光敏层(104a)的敏感度来控制所述第二光敏层(104b)上的图像形成，其中，所述第一光敏层(104a)包含第一光敏卤化银乳剂层(124a)；所述第二光敏层(104b)包含第二光敏卤化银乳剂层(124b)；至少通过选择所述第二光敏卤化银乳剂层(124b)的施加的银量来控制所述第一光敏层(104a)上的所述图像形成；并且至少通过选择所述第一光敏卤化银乳剂层(124a)的施加的银量来控制所述第二光敏层(104b)上的所述图像形成，其中，不提供防光晕层；并且所述第一光敏卤化银乳剂层(124a)和所述第二光敏卤化银乳剂层(124b)均具有5至30g/m²的施加的银量。