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发明名称 METHODS AND APPARATUS FOR REMOVING PHOTORESIST MASK DEFECTS_IN A PLASMA REACTOR
摘要
申请公布号 KR20000075984(A) 申请公布日期 2000.12.26
申请号 KR1019997008069 申请日期 1999.09.06
申请人 发明人
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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