以等离子体支持工艺处理带形材料的装置

摘要

本发明涉及以一种等离子体-支持工艺处理带形材料的装置，其具有一个真空腔(1)，其中真空腔(1)具有保持真空腔处于一个恒定的、减小后的压强的机构并且在真空腔内设置用于支撑和传输带形材料(4)的一个旋转的滚筒(3)，所述装置还具有面对着被滚筒(3)支撑和传输的材料(4)的一个电磁管-机构和一个气体输入机构，其中气体输入机构用于把一种过程气体或者一种过程气体混合物输入滚筒(3)和电磁管-机构之间的空腔(10)中，在这个空腔(10)中保持等离子体。电磁管-机构具有多个相互独立的电磁管-电极(6)，其具有矩形的、相邻并且相互平行设置的电磁管-前面。每个电磁管-电极(6)单独地由一个交变电压电源(7)供电。滚筒(3)接地，不连接一个限定的参考电压(浮动的)，或者连接一个负偏压。本装置特别适合于通过等离子体-支持的气相化学淀积把一种柔软的带形材料(4)涂层，例如以二氧化硅把塑料薄膜涂层来改善防护特性。利用本装置涂层，其可靠性高并且质量非常恒定，而且需要少量可易于实施的保养。

主权项

1.以一种等离子体-支持气相化学淀积工艺处理带形材料的装置，其具有一个真空腔(1)并且在真空腔内设置一个用于支撑和传输带形材料(4)的旋转的滚筒，所述装置还具有一个电磁管-机构和一个提供气体混合物的气体输入机构，其中真空腔(1)具有保持真空腔(1)处于一个恒定的、减小后的压力的机构(2)，其中电磁管-机构面对着被所述旋转的滚筒(3)支撑和传输的带形材料(4)并且其中气体输入机构用于把气体输入在所述旋转的滚筒和电磁管-机构之间的空腔(10)中，其特征在于，电磁管-机构具有多个具有矩形电磁管-前面的独立电磁管-电极(6)，其中每个电磁管-电极(6)通过一个自己的交变电压电源(7)来供电并且其中电磁管-前面与所述旋转的滚筒的圆周表面间隔距离、相互相邻并且以它们的长平行于所述旋转的滚筒的轴线，并且所述电磁管-前面的宽基本上与滚筒相切，所述旋转的滚筒接地、不连接限定的参考电压或者连接一个负偏压。