发明名称 |
目标布置的优化和相关的目标 |
摘要 |
公开了一种设计目标布置的方法,以及相关的目标和掩模版。所述目标包括多个光栅,每个光栅包括多个子结构。所述方法包括步骤:定义目标区域;将所述子结构定位在所述目标区域内,以便形成所述光栅;和在所述光栅周边处定位辅助特征,所述辅助特征配置成减小在所述光栅周边处的被测量的强度峰。所述方法可以包括优化过程,所述优化过程包括对通过使用量测过程检验所述目标而获得的所形成的图像进行模型化;和评价所述目标布置是否被针对于使用量测过程的检测进行优化。 |
申请公布号 |
CN106030414A |
申请公布日期 |
2016.10.12 |
申请号 |
CN201580009522.0 |
申请日期 |
2015.01.29 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
H·W·M·范布尔;J·M·M·拜欧特曼;柳星兰;H·J·H·斯米尔蒂;R·J·F·范哈恩 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G01N21/93(2006.01)I;G01N21/956(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
张启程 |
主权项 |
一种设计目标布置的方法,所述目标包括多个光栅,每个光栅包括多个子结构,所述方法包括下述步骤:定义目标区域;将所述子结构定位在所述目标区域内,以便形成所述光栅;和在光栅的周边处定位辅助特征,所述辅助特征配置成减小在所述光栅的周边处的被测量的强度峰。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |