光掩模基板和光掩模

摘要

本发明提供一种光掩模基板，其包括：设置在透明衬底上，耐氟干法蚀刻并且可通过氯干法蚀刻去除的蚀刻截止膜、设置在蚀刻截止膜上，并且至少包括一层由过渡金属/硅材料构成的层的光屏蔽膜，和设置在光屏蔽膜上的减反射膜。当对光屏蔽膜进行干法蚀刻以形成图案时，由图案密度依赖性所引起的图案尺寸变化被减小，使得能够以高精确度制作光掩模。

主权项

1. 一种光掩模基板，由其制造光掩模，该光掩模包括透明衬底和在其上形成的包括对曝光的光透明的区域和有效不透明的区域的掩模图案，所述光掩模基板包括：透明衬底，设置在该衬底上的蚀刻截止膜，可选的在其间介入另一膜，所述单层或多层构造的蚀刻截止膜耐氟干法蚀刻并可通过氯干法蚀刻去除，与所述蚀刻截止膜邻接设置，并且由含过渡金属和硅的材料组成的单层构成或由至少包括由含过渡金属和硅的材料组成的一层的多层构成的光屏蔽膜，和与所述光屏蔽膜邻接设置并由单层或多层构成的减反射膜。