发明名称 铜电镀液及其使用方法和其中的整平剂的合成方法
摘要 本发明铜电镀液采用合成的聚合物整平剂作铜电镀液整平剂的有效成份并优化其它组成成份,并且本发明提供铜电镀液的使用方法,解决了现有铜电镀液在PCB板等基材盲孔填充应用中存在的不足。本发明的整平剂是自主合成的含有季胺官能团的链式聚合物;采用本发明的整平剂作添加剂,并使用其作铜电镀液进行盲孔填充,填充效率高、面铜厚度低、成本低。
申请公布号 CN106119913A 申请公布日期 2016.11.16
申请号 CN201610495466.2 申请日期 2016.06.30
申请人 深圳市励高表面处理材料有限公司 发明人 杨繁;蔡辉高;蔡辉星
分类号 C25D3/38(2006.01)I;C08F226/06(2006.01)I;C25D21/10(2006.01)I 主分类号 C25D3/38(2006.01)I
代理机构 广东深宏盾律师事务所 44364 代理人 赵琼花
主权项 铜电镀液,其特征是,包括:铜离子源、氯离子源、酸、湿润剂、光亮剂和整平剂;所述铜离子源属于五水硫酸铜、氨基磺酸铜、氯化铜和醋酸铜中的一种或多种;所述氯离子源属于盐酸、氯化钠、氯化钾和氯化铜中的一种或多种;所述酸为上述铜离子源的酸根离子所对应的酸;所述光亮剂属于SPS、MPS以及SPS的衍生物和MPS的衍生物中的一种或多种;所述整平剂为含有季胺官能团的联苯化合物。
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