| 发明名称 | 磁记录媒体的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种磁记录媒体的制造方法，该制造方法能够高效率地制造具有以凹凸图案形成的记录层、且记录·再现特性良好的磁记录媒体。其构成为：包括非磁性材料填充工序(S104)和平坦化工序，而且平坦化工序包括前段平坦化工序(S106)和用于精加工的后段平坦化工序(S108)；该非磁性材料填充工序(S104)中，在基板上以规定的凹凸图案形成的记录层上形成非磁性材料的膜，而填充凹凸图案的凹部；该平坦化工序中，将记录层上的剩余的非磁性材料用干刻法除去，并平坦化表面。 | ||
| 申请公布号 | CN100343905C | 申请公布日期 | 2007.10.17 |
| 申请号 | CN200510007945.7 | 申请日期 | 2005.02.04 |
| 申请人 | TDK股份有限公司 | 发明人 | 服部一博;大川秀一;诹访孝裕;日比干晴 |
| 分类号 | G11B5/84(2006.01) | 主分类号 | G11B5/84(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 高龙鑫;张龙哺 |
| 主权项 | 1.一种磁记录媒体的制造方法，其特征在于，该制造方法构成为包括非磁性材料填充工序和平坦化工序，并且该平坦化工序包含前段平坦化工序和用于精加工的后段平坦化工序；该非磁性材料填充工序中，在基板上以规定的凹凸图案形成的记录层上，形成非磁性材料膜，由此填充前述凹凸图案的凹部；该平坦化工序中，通过干刻法除去前述记录层上的剩余的前述非磁性材料，并平坦化表面，前述前段平坦化工序中的前述非磁性材料的蚀刻率比前述后段平坦化工序中的前述非磁性材料的蚀刻率高。 | ||
| 地址 | 日本东京都中央区 | ||