| 摘要 |
웨이퍼들을 세정하기 위한 장치는 챔버, 챔버 내의 회전가능한 기판 홀더, 회전가능한 기판 홀더 위의 노즐, 아랫방향으로 향해있고 노즐과 유체연통적으로(fluidly) 결합된 커버를 포함한다. 회전가능한 기판 홀더는 하나 이상의 반도체 웨이퍼들을 회전가능한 기판 홀더 상에 탑재시키도록 구성된다. 노즐은 세정 매체를 하나 이상의 반도체 웨이퍼들 상에 분사시키도록 구성된다. 커버는 상단 단면적을 갖는 상단 엣지와 바닥 단면적을 갖는 바닥 엣지를 갖는 형상을 갖는다. |
