Optisches Element, Projektionssystem und EUV-Lithographiesystem damit und Verfahren zur Korrektur einer Oberflächenform

摘要

Die Erfindung betrifft ein optisches Element (1) zur Reflexion von EUV-Strahlung (5), umfassend: ein Substrat (2) sowie eine reflektierende Beschichtung (3), wobei die reflektierende Beschichtung (3) eine Korrekturschicht (5) mit einer Schichtdickenvariation zur Korrektur der Oberflächenform (8) des optischen Elements (1) aufweist. Die Korrekturschicht (4) ist zur Reflexion von unter streifendem Einfall auf das reflektierende optische Element (1) auftreffende EUV-Strahlung (5) ausgebildet. Die Erfindung betrifft auch ein Projektionssystem und ein EUV-Lithographiesystem mit mindestens einem solchen optischen Element (1) sowie ein Verfahren zur Korrektur einer Oberflächenform (8) eines optischen Elements (1).