发明名称 HEMT器件栅泄漏电流中台面泄漏电流的测试方法
摘要 本发明公开了一种HEMT器件栅泄漏电流中台面泄漏电流的测试方法,主要解决现有技术不能对HEMT器件的栅泄漏电流中台面泄漏电流分离的问题。其实现方案是:制作与被测HEMT器件结构相同,栅电极和源漏电极宽度均为被测HEMT器件α倍的测试辅助器件,α>0且α≠1;利用半导体参数测试设备分别测试被测HEMT器件和HEMT测试辅助器件的栅泄漏电流;将被测HEMT器件的栅泄漏电流乘以α倍与HEMT测试辅助器件栅泄漏电流作差,将结果除以(α‑1)项,得到被测HEMT器件的台面泄漏电流。本发明测试方法快速简便,结果准确可靠,能够为后续分析栅泄漏电流中台面泄漏电流产生机理和提高HEMT器件的可靠性提供依据。
申请公布号 CN104062485B 申请公布日期 2016.08.17
申请号 CN201410319025.8 申请日期 2014.07.04
申请人 西安电子科技大学 发明人 郑雪峰;范爽;孙伟伟;张建坤;康迪;王冲;杜鸣;曹艳荣;马晓华;郝跃
分类号 G01R19/00(2006.01)I 主分类号 G01R19/00(2006.01)I
代理机构 陕西电子工业专利中心 61205 代理人 王品华;朱红星
主权项 一种测试HEMT器件中栅泄漏电流中台面泄漏电流的方法,包括如下步骤:A.制作测试辅助器件:制作结构与被测HEMT器件(1)结构相同,电极参数不同的HEMT测试辅助器件(2);该测试辅助器件,其栅电极宽度为W<sub>g</sub>’=αW<sub>g</sub>,源极和漏极宽度均为W<sub>t</sub>’=αW<sub>t</sub>;其栅电极长度、栅漏电极之间距离、栅源电极之间距离及源漏电极的长度均与被测HEMT器件(1)的对应参数相同,其中α为电极宽度变化系数,α&gt;0且α≠1,W<sub>g</sub>为被测HEMT器件的栅极宽度,W<sub>t</sub>为被测HEMT器件源极和漏极的电极宽度;B.利用半导体参数测试设备分别测试出如下两条曲线:将被测HEMT器件置于关闭状态,在漏极施加连续变化的偏置电压V,测出被测HEMT器件的栅泄漏电流I<sub>g(V)</sub>与偏置电压V的关系曲线Q1;用与被测HEMT器件相同的测试条件,测出HEMT测试辅助器件的栅泄漏电流<img file="FDA0000991776270000014.GIF" wi="86" he="67" />与偏置电压V的关系曲线Q2;C.根据步骤B中所测得的两条曲线Q1和Q2,获得被测HEMT器件的台面泄漏电流I<sub>m(V)</sub>:(C1)用被测HEMT器件的栅泄漏电流与偏置电压关系曲线Q1中各个偏置电压V所对应的栅泄漏电流I<sub>g(V)</sub>均乘以α,并将其结果与所述关系曲线Q2中对应偏置电压V下的栅泄漏电流<img file="FDA0000991776270000011.GIF" wi="87" he="71" />逐一作差,即<img file="FDA0000991776270000012.GIF" wi="235" he="70" />再用每个差值除以(α‑1)项,得到被测HEMT器件(1)的台面泄漏电流<img file="FDA0000991776270000013.GIF" wi="342" he="103" />即得到被测HEMT器件(1)的台面泄漏电流I<sub>m(V)</sub>与偏置电压V关系曲线Q3;(C2)根据被测HEMT器件(1)的台面泄漏电流与偏置电压关系曲线Q3,得到偏置电压范围内任意偏置电压下的被测HEMT器件的栅泄漏电流中台面泄漏电流I<sub>m(V)</sub>。
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