发明名称 | 光学邻近修正方法 | ||
摘要 | 一种光学邻近修正方法,包括:提供目标图形;在目标图形上设置多个采样点,采样点位于目标图形的边或转角上;设置初始图形;获得与初始图形相对应的曝光图形;获得曝光图形的边缘位置误差;判断边缘位置误差是否大于预先设定的阈值,当边缘位置误差小于或等于预先设定的阈值时,获得修正图形;当边缘位置误差大于预先设定的阈值时,调整初始图形;对调整后的初始图形重新执行上述获得曝光图形和比较的步骤,直至曝光图形的边缘位置误差小于或等于阈值时,光学邻近修正完成,获得修正图形。本发明通过增加采样点,减少图形在光学邻近修正后发生图形畸变,能够避免由于图形畸变而引起最终获得的修正图形的特征尺寸不足的问题。 | ||
申请公布号 | CN106033170A | 申请公布日期 | 2016.10.19 |
申请号 | CN201510104815.9 | 申请日期 | 2015.03.10 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 杜杳隽 |
分类号 | G03F1/36(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/36(2012.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 高静;骆苏华 |
主权项 | 一种光学邻近修正方法,其特征在于,包括:提供目标图形,所述目标图形由多条边围成,所述目标图形的边在相交处形成转角;在所述目标图形上设置多个采样点,所述采样点位于所述目标图形的边或转角上;设置初始图形;获得与所述初始图形相对应的曝光图形;比较所述曝光图形与所述目标图形在采样点的位置差异,获得曝光图形的边缘位置误差;判断所述边缘位置误差是否大于预先设定的阈值,当所述边缘位置误差小于或等于预先设定的阈值时,光学邻近修正完成,获得修正图形;当所述边缘位置误差大于预先设定的阈值时,调整初始图形,以减小边缘位置误差与所述阈值的差异;对调整后的初始图形重新执行上述获得曝光图形和比较的步骤,直至所述曝光图形的边缘位置误差小于或等于所述阈值时,光学邻近修正完成,获得修正图形。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |