聚酰亚胺类微孔分离膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种用电子束辐照剂量聚酰亚胺类微孔分离膜的方法，属辐射化学及高分子薄膜加工处理技为领域。本发明方法以各种单体聚合而成的聚酰亚胺类薄膜为主要膜材料，在其上覆盖好具有微孔图案的金属模板，采用常规电子加速器所产生的高能电子束进行辐照；其辐照剂量为600～1200KGy；然后将其浸入由H₂SO₄和K₂Cr₂O₇组成的混合蚀刻溶液中，其中H₂SO₄的浓度为6～10mol/L，K₂Cr₂O₇的浓度为0.1～0.3mol/L；在60℃～90℃温度下进行蚀刻，控制蚀刻反应时间为5～10小时；最后清洗、干燥，最终得到图案排列规整、孔径尺寸一致的高分子聚酰亚胺类微孔分离膜。

主权项

1.一种聚酰亚胺类微孔分离膜的制备方法，其特征在于具以以下的过程和步骤：a.首先用去离子水H2SO4和K2Cr2O7的蚀刻混合溶液，其中H2SO4溶液的浓度为6～10mol/L，K2Cr2O7溶液的浓度为0.1～0.3mol/L；b.将具有微孔图案的金属模板覆盖在高分子聚酰亚胺类薄膜上，然后采用常规的电子加速器，在该电子加速器所产生的电子束辐照下进行辐照，其辐照剂量为600～1200KGy；c.将辐照后的聚酰亚胺类薄膜经酸洗、碱洗前处理，然后将其浸入上述配制好的蚀刻混合溶液中；在60～90℃温度下进行蚀刻，控制蚀刻反应的时间为5～10小时；d.将蚀刻好的聚酰亚胺类薄膜用去离子水清洗，然后放入干燥箱干燥；干燥后即可得到图案排列规整、孔径尺寸一致的高分子聚酰亚胺类微孔分离膜；其平均孔径为20μm。