首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS
摘要 대면적 기판을 처리할 수 있는 대면적 원자층 증착장치가 개시된다. 대면적 원자층 증착장치는, 프로세스 챔버, 상기 프로세스 챔버 내부에 구비되고, 복수의 기판이 원형으로 배치되어서 장착되는 서셉터 및 상기 서셉터 상부에 구비되고 상기 서셉터의 원주 방향을 따라 증착가스를 순환 및 유동시키도록 형성된 가스공급부를 포함하여 구성된다.
申请公布号 KR101668866(B1) 申请公布日期 2016.10.25
申请号 KR20150014325 申请日期 2015.01.29
申请人 주식회사 케이씨텍 发明人 박성현;신인철;이근우;김경준
分类号 H01L21/02;H01L21/205;H01L21/683 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com