发明名称 积层构造体及其制造方法
摘要 提供一种良好地抑制锡自铟-锡硬焊填充金属(brazing filler metal)往铟靶扩散之使用效率良好的积层构造体及其制造方法。积层构造体依序积层有底板、铟-锡硬焊填充金属、及铟靶,铟靶之自铟-锡硬焊填充金属侧表面起2.5~3.0mm之厚度范围中的锡浓度为5wtppm以下。
申请公布号 TWI401332 申请公布日期 2013.07.11
申请号 TW101127536 申请日期 2012.07.31
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司 日本 发明人 远藤瑶辅;坂本胜
分类号 C23C14/34;C04B37/02 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本