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发明名称
积层构造体及其制造方法
摘要
提供一种良好地抑制锡自铟-锡硬焊填充金属(brazing filler metal)往铟靶扩散之使用效率良好的积层构造体及其制造方法。积层构造体依序积层有底板、铟-锡硬焊填充金属、及铟靶,铟靶之自铟-锡硬焊填充金属侧表面起2.5~3.0mm之厚度范围中的锡浓度为5wtppm以下。
申请公布号
TWI401332
申请公布日期
2013.07.11
申请号
TW101127536
申请日期
2012.07.31
申请人
JX日鑛日石金属股份有限公司 日本
发明人
远藤瑶辅;坂本胜
分类号
C23C14/34;C04B37/02
主分类号
C23C14/34
代理机构
代理人
阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址
日本
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