发明名称 真空蒸镀用烧结体
摘要 本发明提供一种真空蒸镀用烧结体,是含有一种以上阳离子元素的氧化物的烧结体,其特征是,阳离子元素的电负性在1.5以上,烧结体的表面粗糙度在3μm以下,体电阻小于1×10<SUP>-1</SUP>Ω·cm。
申请公布号 CN101331095A 申请公布日期 2008.12.24
申请号 CN200680046804.9 申请日期 2006.11.13
申请人 出光兴产株式会社 发明人 笘井重和;井上一吉;福田雅彦
分类号 C04B35/00(2006.01);C23C14/32(2006.01) 主分类号 C04B35/00(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李贵亮
主权项 1.一种真空蒸镀用烧结体,它是含有一种以上阳离子元素的氧化物的烧结体,其特征在于,所述阳离子元素的电负性在1.5以上,所述烧结体的表面粗糙度在3μm以下,体电阻小于1×10-1Ω·cm。
地址 日本国东京都