| 发明名称 | 清理近场光学扫描装置的折射元件光学面的方法和用于清理近场光学扫描装置的折射元件光学面的清理设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于清理近场光学扫描装置的折射元件光学面的方法和设备。使用磁性敏感的清理材料，以方便有效地清理折射元件，而不损坏该元件。如果希望的话，可以将根据本发明的方法与已知的清理方法相组合。 | ||
| 申请公布号 | CN101331545A | 申请公布日期 | 2008.12.24 |
| 申请号 | CN200680047349.4 | 申请日期 | 2006.12.06 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | D·M·布鲁尔斯;J·M·A·范登伊伦比姆德;F·M·A·M·范加尔 |
| 分类号 | G11B7/12(2006.01);G11B5/41(2006.01) | 主分类号 | G11B7/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 李亚非;刘红 |
| 主权项 | 1.一种用于清理近场光学扫描装置的折射元件的光学面的方法，所述近场光学扫描装置用于扫描光学记录载体，该方法包括步骤：-第一清理步骤，将磁性敏感的清理材料与折射元件的光学面机械接触。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||