摘要 |
一种钝化修补太阳能电池缺陷之方法,系应用电浆浸没离子布植(Plasma Immersion Ion Implantation,PIII)方式,对于太阳光电元件之太阳能电池及其他光电元件作缺陷(Defect)填补之制程运用,并可在制作太阳光电元件过程中进行离子布植修补缺陷,亦或在完成太阳光电元件合成后进行者。藉此,系将氢离子以不同能量植入于太阳能电池内之不同厚度之吸光层与界面内,以填补吸光层与界面之缺陷空隙或表面复合中心,可有效减少太阳能电池在制作过程中可能产生之缺陷,藉以改善载子传输特性,进而提高太阳能电池之光电转换效率(Efficiency)。 |