发明名称 X射线成像系统光路调整装置
摘要 本实用新型公开了一种X射线成像系统光路调整装置,其包括:旋转平台,具有置于平面的底座和相对底座转动转盘;三维调节架,与转盘固定且具有调节端;晶体安装台,与三维调节架的调节端固定且拆装有平面镜或晶体;激光器,其输出端朝向晶体安装台。本实用新型旨在于,结合晶体布拉格衍射效应和光的反射定律,通过单一的反射镜和激光器实现X射线成像装置中晶体成像的主要光路调整,使现X射线成像装置的精度增加,达到较佳的成像效果。
申请公布号 CN205301211U 申请公布日期 2016.06.08
申请号 CN201620018689.5 申请日期 2016.01.08
申请人 刘利锋 发明人 刘利锋
分类号 G01N23/20(2006.01)I 主分类号 G01N23/20(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种X射线成像系统光路调整装置,其特征在于包括:旋转平台,具有置于平面的底座和相对底座转动转盘;三维调节架,与转盘固定且具有调节端;晶体安装台,与所述三维调节架的调节端固定且拆装有平面镜或晶体;激光器,其输出端朝向所述晶体安装台。
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