| 发明名称 | 一种可反应性树脂及其光成像组合物 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种可反应性树脂及其光成像组合物，可反应性树脂由环氧树脂改性超支化聚酯制备，光成像组合物包含该可反应性树脂、单官能和多官能(甲基)丙烯酸酯、光引发剂以及助剂，光成像组合物光固化后对玻璃、硅晶片、金属基材有优异的附着力，特别适合用光成像、强酸刻蚀方法在这些基材上加工制作微细结构，如微器件、微光学元件等。本发明还公布了与光成像组合物配合使用，对玻璃，硅晶片、金属基材等进行深度刻蚀的化学刻蚀剂。 | ||
| 申请公布号 | CN101024683A | 申请公布日期 | 2007.08.29 |
| 申请号 | CN200610020314.3 | 申请日期 | 2006.02.20 |
| 申请人 | 四川大学 | 发明人 | 王跃川;巫文强 |
| 分类号 | C08G63/91(2006.01);G03F7/004(2006.01) | 主分类号 | C08G63/91(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 1.一种可反应性树脂，含有羧基和羟基官能团，羧基浓度0.2～2.0mmol/g，相对于聚苯乙烯标样的重均分子量(GPC法)在700～8000g/mol，含有20％～50％的有机溶剂。 | ||
| 地址 | 610065四川省成都市一环路南一段24号 | ||