Apparatus for selectively depositing atomic layer for local area on the substrate

摘要

본 발명은, 소스 가스 및 퍼지 가스를 공급하여 기판 표면에 원자층 박막을 증착시키는 국부 원자층 선택 박막 증착 장치에 있어서, 반응 챔버와, 상기 반응 챔버 내에 배치되고, 일면 상에 기판이 배치되는 스테이지와, 상기 스테이지 상부에 상기 스테이지와 상대 가동 가능하게 배치되는 컴비네이션 노즐부와, 상기 기판에 원자층 박막을 형성하기 위한 프리커서 및 산화제를 공급하는 가스 공급부가 구비되고, 상기 컴비네이션 노즐부는, 상기 기판의 일면을 선택적으로 국부 가열시키는 레이저를 조사하는 레이저 코어를 구비하고, 상기 가스 공급부는, 적어도 일부가 상기 레이저 코어에 근접 배치되고 상기 기판의 일면으로 상기 레이저 코어에 의하여 선택적으로 국부 가열되는 영역에 가열된 상기 기판 영역에 흡착되는 프리커서 및 상기 프리커서의 리간드를 제거하는 산화제를 제공하는 것을 특징으로 하는 국부 원자층 선택 박막 증착 장치를 제공한다.