| 发明名称 | 杀菌剂和含有该杀菌剂的清洗剂 | ||
| 摘要 | 一种适宜消除军团菌的抗菌剂，含有至少一种式(1)所代表的氧化胺和/或至少一种式(2)所代表的氧化胺。∴其中R<SUB>1</SUB>代表C<SUB>n</SUB>H<SUB>2n+1</SUB>(OC<SUB>2</SUB>H<SUB>4</SUB>)<SUB>m</SUB>，n为12-18，m为0-10，R<SUB>2</SUB>代表氢原子或具有1-4个碳原子的烷基，并且实线箭头代表氮和氧之间的配位键。∴其中R<SUB>1</SUB>代表C<SUB>n</SUB>H<SUB>2n+1</SUB>(OC<SUB>2</SUB>H<SUB>4</SUB>)<SUB>m</SUB>，n为12-18，m为0-10，R<SUB>3</SUB>代表(C<SUB>p</SUB>H<SUB>2p</SUB>)OH，其中p为1-4，并且实线箭头代表氮和氧之间的配位键。 | ||
| 申请公布号 | CN1209014C | 申请公布日期 | 2005.07.06 |
| 申请号 | CN99100886.3 | 申请日期 | 1999.02.24 |
| 申请人 | 正和株式会社 | 发明人 | 水谷增美;市原和好;山下圭子 |
| 分类号 | A01N33/16;C11D1/75 | 主分类号 | A01N33/16 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 林潮;王维玉 |
| 主权项 | 1.一种含有抗菌剂的清洗液，该溶液喷洒在待处理的位置上，该清洗液含有：0.007～7wt％的至少一种式(1)所代表的氧化胺和/或至少一种式(2)所代表的氧化胺：<img file="C991008860002C1.GIF" wi="812" he="431" />其中R<sub>1</sub>代表C<sub>n</sub>H<sub>2n+1</sub>(OC<sub>2</sub>H<sub>4</sub>)<sub>m</sub>，n为12-18，m为0-10，R<sub>2</sub>代表氢原子或具有1-4个碳原子的烷基，并且实线箭头代表氮和氧之间的配位键；并且<img file="C991008860002C2.GIF" wi="813" he="435" />其中R<sub>1</sub>代表C<sub>n</sub>H<sub>2n+1</sub>(OC<sub>2</sub>H<sub>4</sub>)<sub>m</sub>，n为12-18，m为0-10，R<sub>3</sub>代表(C<sub>p</sub>H<sub>2p</sub>)OH，其中p为1-4，并且实线箭头代表氮和氧之间的配位键；以及至少一种沸点为10-40℃的低沸点化合物，以便将清洗液喷洒在待处理表面上时产生泡沫；其中所述低沸点化合物选自异戊烷、正戊烷或其组合。 | ||
| 地址 | 日本岐阜市 | ||