| 发明名称 | 使用聚焦离子束的化学汽相沉积的光罩图案化方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种形成光罩图案的方法，包括：提供一石英基底，使用聚焦离子束及一有机气体以将碳沉积于该石英基底上而形成光罩图案，在一实施例中，所使用的离子束为镓离子束，而该有机气体是碳氢气体(carbon－hydrogen gas)或嵌二萘(pyrene)气体。 | ||
| 申请公布号 | CN1530460A | 申请公布日期 | 2004.09.22 |
| 申请号 | CN03115764.5 | 申请日期 | 2003.03.13 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 陈新晋 |
| 分类号 | C23C16/04 | 主分类号 | C23C16/04 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 陈亮 |
| 主权项 | 1、一种形成光罩图案的方法，包括：提供一石英基底，使用聚焦离子束及一有机气体以沉积光罩图案于该石英基底上。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江路18号 | ||