发明名称 Ion planting while growing a III-nitride layer
摘要 A method that includes implantation of dopants while a III-nitride body is being grown on a substrate, and an apparatus for the practice of the method.
申请公布号 US2008315129(A1) 申请公布日期 2008.12.25
申请号 US20080006562 申请日期 2008.01.03
申请人 INTERNATIONAL RECTIFIER CORPORATION 发明人 BRIERE MICHAEL A.
分类号 G21K5/10;H01L21/20 主分类号 G21K5/10
代理机构 代理人
主权项
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