发明名称 双面抛光机的下盘清洗装置
摘要 本实用新型提供了一种双面抛光机的下盘清洗装置,属于机械技术领域。它解决了现有技术存在着不容易清洗的问题。本双面抛光机的下盘清洗装置设置在抛光机的下盘处,其特征在于,包括用于连接在抛光机上的支架一和支架二,所述的支架一上具有进水组件,所述支架二呈环形且套在下盘外侧,所述支架二上均布有若干与下盘上侧相对的出水件,上述的进水组件与出水件相联。本装置清洗方便。
申请公布号 CN205415320U 申请公布日期 2016.08.03
申请号 CN201620216535.7 申请日期 2016.03.21
申请人 浙江森永光电设备有限公司 发明人 郑勇;魏永利;朱枫;高敬帅
分类号 B24B53/017(2012.01)I;B08B3/02(2006.01)I 主分类号 B24B53/017(2012.01)I
代理机构 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人 吴建锋
主权项 一种双面抛光机的下盘清洗装置,设置在抛光机的下盘处,其特征在于,包括用于连接在抛光机上的支架一和支架二,所述的支架一上具有进水组件,所述支架二呈环形且套在下盘外侧,所述支架二上均布有若干与下盘上侧相对的出水件,上述的进水组件与出水件相联。
地址 314000 浙江省嘉兴市秀洲区加创路1509号中节能产业园17幢
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