发明名称 |
双面抛光机的下盘清洗装置 |
摘要 |
本实用新型提供了一种双面抛光机的下盘清洗装置,属于机械技术领域。它解决了现有技术存在着不容易清洗的问题。本双面抛光机的下盘清洗装置设置在抛光机的下盘处,其特征在于,包括用于连接在抛光机上的支架一和支架二,所述的支架一上具有进水组件,所述支架二呈环形且套在下盘外侧,所述支架二上均布有若干与下盘上侧相对的出水件,上述的进水组件与出水件相联。本装置清洗方便。 |
申请公布号 |
CN205415320U |
申请公布日期 |
2016.08.03 |
申请号 |
CN201620216535.7 |
申请日期 |
2016.03.21 |
申请人 |
浙江森永光电设备有限公司 |
发明人 |
郑勇;魏永利;朱枫;高敬帅 |
分类号 |
B24B53/017(2012.01)I;B08B3/02(2006.01)I |
主分类号 |
B24B53/017(2012.01)I |
代理机构 |
北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 |
代理人 |
吴建锋 |
主权项 |
一种双面抛光机的下盘清洗装置,设置在抛光机的下盘处,其特征在于,包括用于连接在抛光机上的支架一和支架二,所述的支架一上具有进水组件,所述支架二呈环形且套在下盘外侧,所述支架二上均布有若干与下盘上侧相对的出水件,上述的进水组件与出水件相联。 |
地址 |
314000 浙江省嘉兴市秀洲区加创路1509号中节能产业园17幢 |