发明名称 |
检测装置、测量装置、光刻装置和制造物品的方法 |
摘要 |
公开了检测装置、测量装置、光刻装置和制造物品的方法。本发明提供了一种检测装置,其使光倾斜地入射在包括折射率彼此不同的多个层的基板上并且使用从该基板反射的光来检测该基板的高度,该装置包括光学系统,该光学系统包括用于减少s偏振光的偏振器并且被配置为使其中s偏振光已通过偏振器减少的光以40°至55°范围内的入射角入射在基板上。 |
申请公布号 |
CN106094442A |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201610262881.3 |
申请日期 |
2016.04.26 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
前田普教 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
宋岩 |
主权项 |
一种检测装置,其使光倾斜地入射在包括折射率彼此不同的多个层的基板上并且使用从基板反射的光来检测所述基板的高度,其特征在于,该装置包括:光学系统,包括用于减少s偏振光的偏振器并且被配置为使其中s偏振光已通过偏振器减少的光以40°至55°范围内的入射角入射在所述基板上。 |
地址 |
日本东京 |