化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法、及び、化合物又は樹脂の精製方法

摘要

下記式（１）で表される、化合物。【化１】（式（１）中、Ｘは、各々独立して、酸素原子、硫黄原子又は無架橋であることを示し、Ｒ１は、各々独立して、水素原子、ハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、炭素原子数１〜３０のアルキル基、炭素原子数２〜３０のアルケニル基、炭素原子数６〜４０のアリール基、及びそれらの組み合わせからなる群より選択され、ここで、該アルキル基、該アルケニル基及び該アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、Ｒ２は、各々独立して、炭素数１〜３０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜４０のアリール基、炭素数２〜３０のアルケニル基、チオール基又は水酸基であり、ここで、Ｒ２の少なくとも１つは水酸基又はチオール基を含む基であり、ｍは、各々独立して、１〜７の整数であり、ｐは各々独立して０又は１であり、ｑは各々独立して０〜４の整数であり、ｎは０又は１である。）