| 发明名称 |
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| 摘要 |
An immersion lithographic projection apparatus is disclosed in which liquid is provided between a projection system of the apparatus and a substrate. The use of both liquidphobic and liquidphilic layers on various elements of the apparatus is provided to help prevent formation of bubbles in the liquid and to help reduce residue on the elements after being in contact with the liquid. |
| 申请公布号 |
JP6055501(B2) |
申请公布日期 |
2016.12.27 |
| 申请号 |
JP20150031453 |
申请日期 |
2015.02.20 |
| 申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． |
发明人 |
ボブ シュトレーフケルク;ヨハネス ヤコブス マテウス バゼルマンス;リチャード ジョセフ ブリュレス;マルセル マシユス セオドア マリー ディーリヒス;ショエルト ニコラース ラムベルテュス ドンデルス;クリスティアーン アレクサンダー ホーゲンダム;ハンス ヤンセン;エリック ロエロフ ロープシュトラ;ジェロエン ヨハネス ソフィア マリア メルテンス;ヨハネス キャサリヌス ヒュベルテュス ムルケンス;ティモテウス フランシスクス センゲルス;ロナルド ヴァルター ジーン セフェリユンス;セルゲイ シュレポフ;ヘルマン ボーム |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;B05D3/12 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
