发明名称 Substrate holder unit and apparatus for treatmenting substrate having the same
摘要 본 발명은 기판을 지지하는 기판 지지 유닛으로서, 승하강이 가능하여, 상기 기판을 승하강 이동시키는 이송 테이블을 구비하는 승하강 구동부, 상하 방향에서, 상기 이송 테이블의 일측에 위치하며, 일면에 상기 기판이 지지되는 지지대, 이송 테이블과 지지대 사이를 연결하도록 설치되며, 탄성력을 가지는 제 1 탄성 기구를 포함한다. 따라서, 본 발명의 실시형태들에 의하면, 상부 지지대를 금속 또는 금속 합금 등과 같은 강재로 제조함에 따라, 상부 기판이 지지되는 상부 지지대의 지지면이 종래와 같은 탄성체 플레이트의 지지면에 비해 평탄하다. 즉, 상부 기판이 지지되는 상부 지지대의 평탄도가 종래에 비해 향상된다. 이에 따라, 상부 지지대의 지지면의 평탄도에 의한 상부 기판과 하부 기판 간의 정렬 틀어짐을 억제 또는 방지할 수 있다. 또한, 상부 기판을 점착력으로 지지하는 점착핀에 탄성 부재를 구비시킴에 따라, 상부 기판이 챔버부 내로 기울어지도록 장입되었더라도, 상부 기판이 상부 지지대와 평행하도록 교정시킬 수 있다.
申请公布号 KR101651545(B1) 申请公布日期 2016.09.06
申请号 KR20140136804 申请日期 2014.10.10
申请人 에이피시스템 주식회사 发明人 이석정;조익성
分类号 H01L21/677;H01L21/683 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人
主权项
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