| 摘要 |
본원 발명은, 진공 용기와, 상기 진공 용기 내에 설치되며, 기판이 적재되는 기판 적재부와, 상기 진공 용기 내에 플라즈마 발생용 가스를 공급하기 위한 가스 공급부와, 상기 가스 공급부로부터 공급된 상기 플라즈마 발생용 가스를 플라즈마화하기 위해서, 고주파 전력이 공급되는 안테나와, 상기 안테나와 플라즈마가 발생하는 영역 사이에 설치되며, 상기 안테나에 의해 형성되는 전자계의 전계를 차단하고, 자계를 통과시키기 위해서, 상기 안테나가 신장되는 방향과 교차하도록 형성된 슬릿을 안테나의 길이 방향을 따라서 복수 배열한 도전판으로 이루어지는 패러데이 실드와, 상기 안테나의 길이 방향에 있어서의 플라즈마 밀도를 조정하기 위해서, 상기 슬릿의 개구 면적을 조정하기 위한 도전체로 이루어지는 조정 부재를 구비하는 플라즈마 처리 장치를 제공한다. |
