发明名称 |
磁记录媒体的制造方法以及磁记录媒体 |
摘要 |
提供了面记录密度高且记录·读取精度高的磁记录媒体的制造方法以及磁记录媒体。其解决方案为,在连续记录层和第一掩膜层(34)间形成中间保护膜(24A),在分割了连续记录层后,保留分割记录单元(20)上的中间保护膜(24A),并去除第一掩膜层(34)。另外,在用非磁性体(28)填充分割记录单元(20)间的间隙部(26)后,去除第一掩膜层(34)。 |
申请公布号 |
CN1314005C |
申请公布日期 |
2007.05.02 |
申请号 |
CN200410031362.3 |
申请日期 |
2004.03.25 |
申请人 |
TDK股份有限公司 |
发明人 |
诹访孝裕;高井充;服部一博 |
分类号 |
G11B5/84(2006.01);C23F4/00(2006.01) |
主分类号 |
G11B5/84(2006.01) |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
经志强;潘培坤 |
主权项 |
1.一种磁记录媒体的制造方法,其特征在于,包含:连续记录层形成工序,在基板表面上形成连续记录层;中间保护层形成工序,在所述连续记录层上形成中间保护层;掩膜层形成工序,在所述中间保护层上形成掩膜层;掩膜层加工工序,按照规定图案部分去除所述掩膜层;连续记录层加工工序,去除在所述连续记录层中从所述掩膜层露出的部分,按照所述规定图案将该连续记录层分割为多个分割记录单元;非磁性体填充工序,在所述分割记录单元间的间隙部中填充非磁性体;掩膜层去除工序,在所述分割记录单元上保留所述中间保护层并去除该中间保护层上的掩膜层;并且,依次进行所述连续记录层加工工序、所述非磁性体填充工序和所述掩膜层去除工序。 |
地址 |
日本东京都中央区 |