发明名称 |
1064纳米偏振无关宽带高衍射效率双层反射型全介质光栅 |
摘要 |
一种中心波长1064纳米偏振无关宽带高衍射效率双层反射型全介质光栅,包括由顶层光栅层、次层光栅层和次层光栅剩余层构成光栅顶部结构,以及由高折射率对比度全介质周期薄膜层和基底构成光栅底部结构,所述的顶层光栅层和次层光栅层为高折射率对比度材料,所述光栅的周期为833~1052纳米,占宽比为0.47~0.65。本发明的反射型全介质光栅在入射角度为‑1级利特罗角时,在入射光1020~1100纳米范围内可同时使TE、TM偏振方向的‑1级衍射效率高于95%,波段内最高衍射效率超过99%,且在较宽角谱(5°左右)和宽方位角谱(正负15°~正负20°)内具有高于95%的‑1级衍射效率,实现对偏振无关入射光的高效率衍射。 |
申请公布号 |
CN105891925A |
申请公布日期 |
2016.08.24 |
申请号 |
CN201610239620.X |
申请日期 |
2016.04.18 |
申请人 |
中国科学院上海光学精密机械研究所 |
发明人 |
晋云霞;陈俊明;邵建达;孔钒宇;黄昊鹏;张洪;王磊磊;李林欣 |
分类号 |
G02B5/18(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/18(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
张泽纯;张宁展 |
主权项 |
一种1064纳米偏振无关宽带高衍射效率双层反射型全介质光栅,其特征在于包括由上至下由顶层光栅层(3)、次层光栅层(4)和次层光栅剩余层(5)构成光栅顶部结构,以及由上至下由高折射率对比度全介质周期薄膜层和基底构成光栅底部结构;所述的顶层光栅层和次层光栅层为高折射率对比度材料:当顶层光栅层为低折射率材料时,则次层光栅层为高折射率材料,次层光栅剩余层的材料与次层光栅层的材料一致;当顶层光栅层为高折射率材料时,则次层光栅层为低折射率材料,次层光栅剩余层的材料与次层光栅层的材料一致,且次层光栅剩余层下面设有高折射率材料的匹配层(9)。 |
地址 |
201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱 |