连续地直接写的光刻技术

摘要

一种光刻系统包括：光源、空间光调制器、成像光学器件和相对于空间光调制器连续地移动光敏衬底的装置。该空间光调制器包括至少一个阵列的可单独切换元件。空间光调制器被连续地照射并且空间光调制器的图像连续地投影在衬底上；随后，图像恒定地移过衬底的表面。在图像移过表面的同时，空间光调制器的元件被切换以使在衬底的表面的像素从空间光调制器的多个元件中依次地接收能量计量，由此在衬底表面上形成潜像。成像光学器件被构造成将空间光调制器的模糊图像投影在衬底上，实现子像素分辨率边缘布置。

主权项

1. 一种光刻方法，包括如下的步骤:照射空间光调制器，所说的空间光调制器包括可单独切换元件的区域阵列；将所说的空间光调制器的图像投影在衬底的光敏表面上；将所说的图像在所说的衬底的所说的表面上移动；在移动所说的图像的同时，切换所说的空间光调制器的所说的元件，从而所说的光敏表面上的像素从所说的空间光调制器的多个元件依次地接收能量剂量，由此在所说的表面上形成潜像；和使所说的图像模糊，其中所说的模糊实现子像素分辨率特征边缘布置。