发明名称 |
涡卷压缩机的阶梯型变容量装置 |
摘要 |
本发明公开了一种涡卷压缩机的阶梯型变容量装置,包括:绕动涡卷,其具有第一填充部,该第一填充部从卷体的外端部到卷体的内侧凸起成一固定高度形成;以及第二填充部,该第二填充部以一定长度从该卷体的外端在该第一填充部延伸而形成;固定涡卷,通过设置与该绕动涡卷的该第一填充部和该第二填充部相对应的阶梯型下卷体,与该绕动涡卷啮合;以及开/关组件,其用于开启和关闭由该绕动涡卷的第二填充部和该固定涡卷的阶梯型下卷体形成的通道。因此,制造成本降低,容量变化范围大大增加,并且便于操作。 |
申请公布号 |
CN100470057C |
申请公布日期 |
2009.03.18 |
申请号 |
CN200510084552.6 |
申请日期 |
2005.07.26 |
申请人 |
LG电子株式会社 |
发明人 |
金明均;李丙哲 |
分类号 |
F04C28/00(2006.01)I;F04C18/02(2006.01)I |
主分类号 |
F04C28/00(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
王玉双;潘培坤 |
主权项 |
1. 一种涡卷压缩机的阶梯型变容量装置,其中,该装置包括:绕动涡卷,其具有第一填充部,该第一填充部从卷体的外端部到卷体的内侧凸起成一固定高度形成;以及第二填充部,该第二填充部以一定长度从该卷体的外端在该第一填充部延伸而形成;固定涡卷,其通过设置与该绕动涡卷的该第一填充部和该第二填充部相对应的阶梯型下卷体,与该绕动涡卷啮合;以及开/关组件,其用于开启和关闭由该绕动涡卷的第二填充部和该固定涡卷的阶梯型下卷体形成的通道。 |
地址 |
韩国首尔 |