发明名称 一种Na掺杂Cu<sub>2</sub>ZnSn(S<sub>1-x</sub>Se<sub>x</sub>)<sub>4</sub>薄膜的制备方法
摘要 本发明公开了一种Na掺杂Cu<sub>2</sub>ZnSn(S<sub>1-x</sub>Se<sub>x</sub>)<sub>4</sub>薄膜的制备方法,属于光学薄膜制备技术领域。本方法包括以下步骤:1)对衬底进行清洗;2)在磁控溅射制备Cu<sub>2</sub>ZnSn(S<sub>1-x</sub>Se<sub>x</sub>)<sub>4</sub>(0≤x≤1)薄膜过程溅射NaF,或者交替分层制备Cu<sub>2</sub>ZnSn(S<sub>1-x</sub>Se<sub>x</sub>)<sub>4</sub>薄膜与NaF薄膜;3)对薄膜进行热处理。本发明通过采用上述两种Na掺杂方式,能够有效提高Cu<sub>2</sub>ZnSn(S<sub>1-x</sub>Se<sub>x</sub>)<sub>4</sub>薄膜的Na掺杂均匀性,进而提高Cu<sub>2</sub>ZnSn(S<sub>1-x</sub>Se<sub>x</sub>)<sub>4</sub>薄膜太阳能电池的光电转换效率。
申请公布号 CN105803392A 申请公布日期 2016.07.27
申请号 CN201410841847.2 申请日期 2014.12.30
申请人 北京有色金属研究总院 发明人 王吉宁;王飞;刘晓鹏;蒋利军;王树茂
分类号 C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I 主分类号 C23C14/06(2006.01)I
代理机构 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人 程凤儒
主权项 一种Na掺杂Cu<sub>2</sub>ZnSn(S<sub>1‑x</sub>Se<sub>x</sub>)<sub>4</sub>薄膜的制备方法,其中0≤x≤1,其特征在于,使用常规的磁控溅射方法,包括以下步骤:1)对衬底进行清洗;2)在磁控溅射制备Cu<sub>2</sub>ZnSn(S<sub>1‑x</sub>Se<sub>x</sub>)<sub>4</sub>薄膜过程中共溅射NaF,或者交替分层制备Cu<sub>2</sub>ZnSn(S<sub>1‑x</sub>Se<sub>x</sub>)<sub>4</sub>薄膜与NaF薄膜;3)对薄膜进行热处理。
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