| 发明名称 |
LIQUID COMPOSITION FOR REMOVING PHOTORESIST RESIDUE AND POLYMER RESIDUE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP2085825(A4) |
申请公布日期 |
2009.12.09 |
| 申请号 |
EP20070830425 |
申请日期 |
2007.10.24 |
| 申请人 |
KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
OHWADA, TAKUO |
| 分类号 |
G03F7/42;H01L21/027;H01L21/304;H01L21/3213;H01L21/768 |
主分类号 |
G03F7/42 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
