具有非典型图案的光刻胶及其蚀刻基材与形成洞的方法

摘要

本发明公开了一种具有非典型图案的光刻胶以及其蚀刻基材的方法，所述光刻胶包含第一图案与第二图案。第一图案与第二图案的重叠部分为集合区域，而界定一种非典型图案。非典型图案中的任何一边都不是直线。

主权项

一种具有非典型图案的光刻胶，其特征在于，包括：一光刻胶层；一第一图案，位于所述光刻胶中、沿着一第一方向延伸、并包含由一第一材料与一第二材料所界定出的曲线，其中任何一所述第一材料夹置于相邻的所述第二材料之间；一第二图案，位于所述光刻胶中、沿着不平行于所述第一方向的一第二方向延伸、并包含由一第三材料与一第四材料所界定出的曲线，其中任何一所述第三材料夹置于相邻的所述第四材料之间；以及一集合区域，位于所述第二材料以及所述第四材料中而界定出一非典型图案，其中所述非典型图案的任何一边都是曲线。