EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

摘要

액침 장치(132)는, 투영 광학계(PL)의 광 사출 측에 배치되는 물체(부재) 표면의 발액막 상에 공급되는 액체에 그 액체의 비저항을 조정하는 정해진 물질을 혼입하여 용해시키는 혼입 기구를 구비하고, 그 정해진 물질을 용해시킨 액체(Lq)를 발액막 상에 공급하여 액침 영역을 형성한다.