发明名称 |
装载锁定装置,包括该装置的光刻设备及制造基底的方法 |
摘要 |
用于光刻设备的装载锁定装置,被设置用来把类似于基底(W)的物体转移到光刻设备和从光刻设备中转移出来。装载锁定装置的外壁(38;40)限定装载锁定装置容积的至少一部分,以便当物体在所述装载锁定装置中时,该容积可容纳支承物体(W)的支承部件(33;141)。该装载锁定装置还包括温度调节结构,用来至少在物体从装载锁定装置向光刻投射装置转移之前,控制物体的温度达到要求的温度。 |
申请公布号 |
CN1538240A |
申请公布日期 |
2004.10.20 |
申请号 |
CN200410032672.7 |
申请日期 |
2004.03.10 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
A·J·H·克洛普;J·F·胡格坎普;R·维斯塞;J·C·J·A·乌格特斯;H·J·L·M·乌林斯;L·W·M·奎佩斯;J·H·G·弗兰斯森 |
分类号 |
G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/00 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
蔡民军 |
主权项 |
1.一种用于光刻设备的装载锁定装置,被设置用来把物体(W)转移到所述光刻设备和从所述光刻设备中转移出来,包括至少部分限定装载锁定装置容积的外壁(38,40),当物体(W)在所述装载锁定装置(LL)中时,该容积容纳支承物体(W)的支承部件(33;141),该装载锁定装置(LL)包括温度调节结构,以至少在所述物体从所述装载锁定装置向所述光刻投射装置转移之前,控制所述物体的温度达到要求的温度。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |