RESIST UNDERLAYER COMPOSITION METHOD OF FORMING PATTERNS AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE INCLUDING THE PATTERNS

摘要

하기 화학식 1로 표현되는 부분을 포함하는 화합물 및 용매를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물을 제공한다. [화학식 1]상기 화학식 1에서, 상기 A, A, B, R, R는 각각 명세서에서 정의한 바와 같다.