| 摘要 |
본 발명은 점진적 식각법 및 나노 임프린트기술을 이용하여 다양한 크기의 나노 패턴을 단일 기판에 제조하는 방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 점진적인 식각을 통해 다양한 크기의 나노 구멍이 단계적으로 형성된 단일 기판을 제작하는 방법과, 이렇게 제작된 기판을 몰드로 하여 나노 임프린트기술을 통해 다양한 크기의 나노 구조를 갖는 고분자 단일 평판을 구현할 수 있는 기술에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은, 단일 기판에 다양한 크기의 나노기공 패턴을 제조하는 방법에 있어서, ⅰ) 알루미늄 기판을 양극산화시켜 일정한 크기의 나노기공 패턴을 제조하는 단계; ⅱ) 상기 양극산화 알루미늄 기판을 식각용액에 점진적으로 노출시켜 단일기판에 다양한 크기의 나노기공 패턴을 형성하는 단계; ⅲ) 다양한 크기의 나노기공 패턴을 이용하여 다양한 크기의 나노구조를 갖는 고분자 단일 평판을 구현하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 방법이다. |
