发明名称 用于测量测量目标的具有镜面装置的干涉仪
摘要 本发明提出了一种用于对测量目标(5),特别是测量目标(5)的厚度进行测量的干涉仪式的测量装置(1)。在这种情况中,专用镜头(45)设有镜面装置(40),该镜面装置由至少一个第一偏转镜面(60)和一个第二偏转镜面(65)组成,并且这些偏转镜面是如此设置的,即射到第一偏转镜面(60)或者说第二偏转镜面(65)的目标光线(25)对准彼此反向平行的第一光程(80)或者说第二光程(85)中的待测量的测量目标(5)的第一侧面(70)或者说与它平行的第二侧面(75)。镜面装置(40)附加地具有至少一个用于投影待测量的测量目标(5)相对于第一偏转镜面(60)和/或第二偏转镜面(65)的位置的第一位置镜面(104)。
申请公布号 CN100449255C 申请公布日期 2009.01.07
申请号 CN200580031863.4 申请日期 2005.07.22
申请人 罗伯特·博世有限公司 发明人 J·施特雷勒
分类号 G01B9/02(2006.01);G01B11/06(2006.01);G01N21/95(2006.01) 主分类号 G01B9/02(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 曹若;胡强
主权项 1.用于对测量目标(5)进行测量的干涉仪式的测量装置(1),其具有光源(10)、用于形成基准光线(20)和目标光线(25)的分光器(15)、在基准光程(35)中的基准镜面(30)、在目标光程(50)中的具有镜面装置(40)的专用镜头(45)和摄像机(55),其中,镜面装置(40)由至少一个第一偏转镜面(60)和一个第二偏转镜面(65)组成,并且这些偏转镜面是如此设置的,即射到第一偏转镜面(60)的目标光线(25)对准第一光程(80)中的待测量的测量目标(5)的第一侧面(70),而射到第二偏转镜面(65)的目标光线(25)对准第二光程(85)中的待测量的测量目标(5)的第二侧面(75),其中待测量的测量目标(5)的所述第一侧面(70)和第二侧面(75)相互平行并且第一光程(80)和第二光程(85)彼此反向平行,其特征在于,所述镜面装置(40)附加地具有至少一个用于投影待测量的测量目标(5)相对于第一偏转镜面(60)和/或第二偏转镜面(65)的位置的第一位置镜面(104)。
地址 德国斯图加特